一種電磁屏蔽膜制造技術

技術編號:22907948 閱讀:19 留言:0更新日期:2019-12-21 14:59
本實用新型專利技術提供一種電磁屏蔽膜,包括依次設置的載體膜、棱柱層、金屬層、吸波層、粘膠層和保護層,棱柱層位于載體膜和金屬層之間,金屬層可沿棱柱結構生長,吸波層設置在金屬層的上方,吸波層包括電磁波吸收劑和基體樹脂,粘膠層的上表面、下表面分別與保護層的下表面、吸波層的上表面貼合,該電磁屏蔽膜具工藝穩定、成本低、電磁屏蔽性能優異等特點,適合工業推廣使用。

An electromagnetic shielding film

【技術實現步驟摘要】
一種電磁屏蔽膜
本技術屬于屏蔽膜
,具體涉及一種電磁屏蔽膜。
技術介紹
近年來,伴隨著信息化社會的快速發展,電子終端發展急速,隨著數據大容量、高速傳輸功能要求越來越高,工作頻率越來越高,帶來的電磁輻射越來越強。此外,電子終端體積小型化加劇了電磁波干擾問題,不僅對電子產品造成干擾,也污染人們工作生活的環境,因此迫切需要輕薄化、低成本、高屏蔽性能的電磁屏蔽膜。目前,現有屏蔽膜僅對電磁波具有反射功能,不具有吸收功能,結構單一,屏蔽效果不理想,屏蔽范圍為45~60db,而且生產工藝相對復雜。因此,針對以上幾點問題,需要開發一種全新的電磁屏蔽膜。
技術實現思路
本技術要解決的技術問題是提供一種電磁屏蔽膜,來解決上述問題。為解決上述技術問題,本技術提供一種電磁屏蔽膜,包括:載體膜、棱柱層、金屬層、吸波層和粘膠層,所述棱柱層由多條棱柱結構平行且呈周期性排列構成,所述棱柱層的下表面呈平面狀,所述棱柱層的上表面呈起伏狀,每條棱柱結構的最高點所連成的線為棱線,相鄰兩條棱柱結構之間的最低點所連成的線為底線,相鄰兩個棱柱結構的棱線之間形成一個凹槽,每個凹槽的底端具有至少一條底線,所述載體膜設置于所述棱柱層的下方,所述金屬層沿所述棱柱層的上表面生長,均勻貼附于所述棱柱層的上表面,并隨著所述棱柱層起伏,所述吸波層設置于所述金屬層的上方,所述吸波層填充所述凹槽,所述吸波層的上表面呈平面狀,覆蓋有所述金屬層的棱線低于所述吸波層的上表面,所述粘膠層設置在所述吸波層的上方,所述粘膠層的下表面與所述吸波層的上表面貼合。>作為本技術所述一種電磁屏蔽膜的一種優選方案,所述吸波層分成第一部分和第二部分,所述第一部分與所述第二部分連接呈一體結構,所述第一部分嵌設于所述凹槽內,在所述棱線上方的金屬層的高度等于所述吸波層第一部分的上表面的高度,所述第二部分設置于所述第一部分的上方,所述第二部分的下表面連接所述第一部分的上表面。作為本技術所述一種電磁屏蔽膜的一種優選方案,所述吸波層的厚度為4~20μm所述第一部分的高度為0.5~2μm,所述第二部分的高度為3.5~18μm。作為本技術所述一種電磁屏蔽膜的一種優選方案,所述吸波層包括吸波劑部和基體樹脂部,所述吸波劑部為多個吸波劑顆粒,所述多個吸波劑顆粒嵌入所述基體樹脂部中。作為本技術所述一種電磁屏蔽膜的一種優選方案,所述吸波劑顆粒為石墨烯、碳化硅、石墨、碳纖維、鐵氧體中的任意一種或多種;所述基體樹脂部為改性聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂、橡膠、環氧樹脂、聚酰亞胺樹脂中的任意一種。作為本技術所述一種電磁屏蔽膜的一種優選方案,所述棱柱層垂直于所述棱線的截面為等腰三角形、梯形或多邊形中的任意一種或多種,所述棱柱層棱柱單元底面的寬度為0.5~3μm,高度為0.5~2μm。作為本技術所述一種電磁屏蔽膜的一種優選方案,所述載體膜的厚度為35~165μm,所述金屬層的厚度為0.01~2μm,所述粘膠層的厚度為1~5μm。作為本技術所述一種電磁屏蔽膜的一種優選方案,所述電磁屏蔽膜還包括保護層,所述保護層設置在所述粘膠層的上方,并貼覆于所述粘膠層上。作為本技術所述一種電磁屏蔽膜的一種優選方案,所述保護層的厚度為20~150μm。作為本技術所述一種電磁屏蔽膜的一種優選方案,所述載體膜的材料為PI、PEN、PPS薄膜中的任意一種,所述金屬層為鋁、銀、鋅、鎳、銅、金中的任意一種,所述粘膠層為改性聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂、橡膠、環氧樹脂、聚酰亞胺樹脂中的任意一種,所述保護層為離型PI、PET、PP離型膜中的任意一種。與現有技術相比,本技術提出的一種電磁屏蔽膜具有以下優點:第一,通過設置具有反射電磁波的金屬層和吸收電磁波的吸波層,提升電磁屏蔽的效果;第二,與常規電磁屏蔽膜相比,工藝更簡易、生產工藝穩定且成本低,適合工業推廣使用。附圖說明為了更清楚地說明本技術實施例的技術方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本技術的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動性的前提下,還可以根據這些附圖獲得其它的附圖。其中,圖1為本技術的一種電磁屏蔽膜的垂直棱線斷面結構示意圖。其中:1為載體膜、2為棱柱層、3為金屬層、4為吸波層、5為粘膠層、6為保護層。具體實施方式為使本技術的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂,下面結合具體實施方式對本技術作進一步詳細的說明。首先,此處所稱的“一個實施例”或“實施例”是指可包含于本技術至少一個實現方式中的特定特征、結構或特性。在本說明書中不同地方出現的“在一個實施例中”并非均指同一個實施例,也不是單獨的或選擇性的與其他實施例互相排斥的實施例。其次,本技術利用結構示意圖等進行詳細描述,在詳述本技術實施例時,為便于說明,表示一種電磁屏蔽膜結構的示意圖會不依一般比例作局部放大,而且所述示意圖只是實例,其在此不應限制本技術保護的范圍。此外,在實際制作中應包含長度、寬度及深度的三維空間。本技術所述的一種電磁屏蔽膜,從下到上分為五層依次為載體膜1、棱柱層2、金屬層3、吸波層4、粘膠層5和保護層6,此處的上和下的依據僅為圖1中的放置方式,其也可以是從上到下的分層。如圖1所示,載體膜1的厚度為35~165μm,可以選用PI、PEN、PPS薄膜中的任意一種或多種。棱柱層2位于載體膜1和金屬層3之間,棱柱層2由多條棱柱結構平行周期性排列構成,每條棱柱結構都至少有一條棱線,棱線是由棱柱結構的最高點連接而成,棱線與水平面平行,相鄰兩個棱柱結構之間形成凹槽,這個凹槽中至少有一條底線,底線是棱柱結構的最底點連接而成,凹槽的結構可以多樣,底線與棱柱層2的下表面貼合或者具有高度差均可,沿與棱線方向垂直切下的棱柱結構的截面為等腰三角形、梯形、長方形中的一種,也可以為多種圖形的組合排列,如:第一個截面為等腰三角形,第二個截面為梯形,第三個截面又為等腰三角形,以此類推,棱柱層2棱柱結構單元底面寬度為0.5~3μm,高度為0.5~2μm。金屬層3沿沿棱柱結構生長,其貼于棱柱層2的上表面,金屬層3的厚度為0.01~2μm,金屬層3的作用是電磁波反射,材料為鋁、銀、鋅、鎳、銅、金中的一種或由多種混合組成,金屬層3的厚度均勻,因此,金屬層3隨著棱柱層2形狀的起伏而起伏。吸波層4覆蓋的金屬層3上,吸波層4用于吸收電磁波,吸波層4厚于金屬層3+棱柱層2的最大峰高值的厚度,為了便于理解,將吸波層4分為第一部分和第二部分,第一部分填充凹槽,第二部分覆蓋第一部分,第一部分的高度為0.5~2μm,第二部分的高度為3.5~18μm,吸波層包括吸波劑和基體樹脂,吸波劑顆粒混于基體樹脂之中,形成吸波劑顆粒嵌于基體樹脂的結構,吸波劑選擇石墨烯、碳化硅、石墨、碳纖維、鐵氧體等中的任意一種或多種,基體樹脂為改性聚氨酯樹脂、丙烯酸樹脂、橡膠、環氧樹脂中的任意一種,粘膠層5的下表貼合吸波本文檔來自技高網...

【技術保護點】
1.一種電磁屏蔽膜,其特征在于,包括:載體膜、棱柱層、金屬層、吸波層和粘膠層,所述棱柱層由多條棱柱結構平行且呈周期性排列構成,所述棱柱層的下表面呈平面狀,所述棱柱層的上表面呈起伏狀,每條棱柱結構的最高點所連成的線為棱線,相鄰兩條棱柱結構之間的最低點所連成的線為底線,相鄰兩個棱柱結構的棱線之間形成一個凹槽,每個凹槽的底端具有至少一條底線,所述載體膜設置于所述棱柱層的下方,所述金屬層沿所述棱柱層的上表面生長,均勻貼附于所述棱柱層的上表面,并隨著所述棱柱層起伏,所述吸波層設置于所述金屬層的上方,所述吸波層填充所述凹槽,所述吸波層的上表面呈平面狀,覆蓋有所述金屬層的棱線低于所述吸波層的上表面,所述粘膠層設置在所述吸波層的上方,所述粘膠層的下表面與所述吸波層的上表面貼合。/n

【技術特征摘要】
1.一種電磁屏蔽膜,其特征在于,包括:載體膜、棱柱層、金屬層、吸波層和粘膠層,所述棱柱層由多條棱柱結構平行且呈周期性排列構成,所述棱柱層的下表面呈平面狀,所述棱柱層的上表面呈起伏狀,每條棱柱結構的最高點所連成的線為棱線,相鄰兩條棱柱結構之間的最低點所連成的線為底線,相鄰兩個棱柱結構的棱線之間形成一個凹槽,每個凹槽的底端具有至少一條底線,所述載體膜設置于所述棱柱層的下方,所述金屬層沿所述棱柱層的上表面生長,均勻貼附于所述棱柱層的上表面,并隨著所述棱柱層起伏,所述吸波層設置于所述金屬層的上方,所述吸波層填充所述凹槽,所述吸波層的上表面呈平面狀,覆蓋有所述金屬層的棱線低于所述吸波層的上表面,所述粘膠層設置在所述吸波層的上方,所述粘膠層的下表面與所述吸波層的上表面貼合。


2.如權利要求1所述的電磁屏蔽膜,其特征在于:所述吸波層分成第一部分和第二部分,所述第一部分與所述第二部分連接呈一體結構,所述第一部分嵌設于所述凹槽內,在所述棱線上方的金屬層的高度等于所述吸波層第一部分的上表面的高度,所述第二部分設置于所述第一部分的上方,所述第二部分的下表面連接所述第一部分的上表面。


3.如權利要求2所述的電磁屏蔽膜,其特征在于:所述第一部分的高度為0.5~2μm,所述第二部分的高度為3.5~18μm。


4.如權利要求1所述的電磁屏蔽膜,其特征在于:所述吸波層包括吸波劑部和基體樹脂部,所述...

【專利技術屬性】
技術研發人員:黃寶玉童偉吳豐華呂松
申請(專利權)人:常州斯威克新材料科技有限公司
類型:新型
國別省市:江蘇;32

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